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一种掺铈焦硅酸镥亚微米成像荧光屏的制备方法，其特征在于该成像荧光屏的结构表达式为：（Ｃｅ↓［ｘ］Ｒｅ↓［ｙ］Ｌｕ↓［１－ｘ－ｙ］）↓［２］Ｓｉ↓［２］Ｏ↓［７］／（Ｌｕ↓［１－ｙ］Ｒｅ↓［ｙ］）↓［２］Ｓｉ↓［２］Ｏ↓［７］，它是在晶面方向...该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。
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一种掺铈焦硅酸镥亚微米成像荧光屏的制备方法，其特征在于该成像荧光屏的结构表达式为：（Ｃｅ↓［ｘ］Ｒｅ↓［ｙ］Ｌｕ↓［１－ｘ－ｙ］）↓［２］Ｓｉ↓［２］Ｏ↓［７］／（Ｌｕ↓［１－ｙ］Ｒｅ↓［ｙ］）↓［２］Ｓｉ↓［２］Ｏ↓［７］，它是在晶面方向...