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本发明涉及一种用于清洗涂覆有有机物质的材料（４）表面的方法。本发明方法的特征在于它包括以下步骤：将材料（４）导入一个处理室（２），该处理室内的压力在１０毫巴至１巴之间，它被供应一种包含至少９０％体积氧的气流；以及通过在材料的表面与一个涂覆有...
该专利属于于西纳公司所有，仅供学习研究参考，未经过于西纳公司授权不得商用。

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