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本发明公开了一种大电流SiC肖特基功率二极管,包括衬底、隔离层以及外延层;外延层的第一区域中部刻有阴极凹槽,一端刻有倒梯形开口,第二区域以及阴极凹槽表面有N+注入区;阴极凹槽两侧的外延层有两个P+注入区,一个覆盖第一钝化层,另一个部分覆盖第...该专利属于瑶芯微电子科技(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过瑶芯微电子科技(上海)有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种大电流SiC肖特基功率二极管,包括衬底、隔离层以及外延层;外延层的第一区域中部刻有阴极凹槽,一端刻有倒梯形开口,第二区域以及阴极凹槽表面有N+注入区;阴极凹槽两侧的外延层有两个P+注入区,一个覆盖第一钝化层,另一个部分覆盖第...