专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
中国科学院近代物理研究所
>
一种在超导腔内部对锡源进行局部加热的双电极直流结构制造技术
>技术资料下载
下载一种在超导腔内部对锡源进行局部加热的双电极直流结构的技术资料
文档序号:31492987
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明提供一种在超导腔内部对锡源进行局部加热的双电极直流结构。包括:具有若干加速单元的超导腔,所述超导腔为Nb3Sn薄膜生长的衬底结构;两根加热电极,一根作为正电极,另一根作为负电极,所述两根加热电极贯通所述超导腔,在所述超导腔内部对锡源进...
该专利属于中国科学院近代物理研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院近代物理研究所授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。