温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种镀层均匀的化学镀铜工艺，包括混凝炉，所述混凝炉内部开有混凝腔，所述混凝腔开口朝上，所述混凝炉上端面固定连接有一个固定架，所述固定架上端面固定连接有一个动力箱；本发明通过将密集度较高的待镀工件放置在分离盘上，利用离心力以及分离...
该专利属于鄢妙所有，仅供学习研究参考，未经过鄢妙授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。