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本实用新型涉及一种反应釜清洗系统，属于反应釜的清洗技术领域。它包括反应釜本体，反应釜本体的上方设置有水箱，水箱底部设置送水管路，送水管路设置为波纹管结构；水箱的一侧设置有清洗溶剂箱，另一侧设置碱液箱；清洗溶剂箱底部设置有清洗溶剂管道，清洗溶...
该专利属于李世冰所有，仅供学习研究参考，未经过李世冰授权不得商用。

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