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本实用新型公开了一种薄膜基材处理系统，包括用于提供薄膜基材的放卷模组、用于对薄膜基材进行加热处理的烘箱模组、用于提供强氧化气体的强氧化气体发生器及用于收卷处理后的薄膜基材的收卷模组，放卷模组设置在烘箱模组的基材进料侧，收卷模组设置在烘箱模组...
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