温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型公开一镀膜系统的供料设备，所述供料设备用于为一沉积反应装置供料，以在所述沉积反应装置内沉积镀膜，其包括：一工作载气加热装置，用于为工作载气进行加热；和一原料提供装置，用于将反应原料转变为气体，其中在工作的过程中，所述工作载气被通入...
该专利属于江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。