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本发明公开了一种低温等离子雾化双重消杀装置，它包括机架，传送辊，机架位于传送辊的上方，在机架的两端分别设有进、出口，在机架的进口处设有雾化区，在雾化区内设有雾化装置以及与雾化装置连通的喷头；机架内与雾化区相邻的位置设有低温等离子放电区，低温...
该专利属于河南天博物联网研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过河南天博物联网研究院有限公司授权不得商用。

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