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一种清洗装置,包括罐体、置物架、底座、转轴、升降机构及旋转器,罐体用于收容清洗液,置物架置于罐体内用于放置工件,底座用于固定置物架,升降机构连接转轴位于罐体内的一端,并随转轴旋转,底座滑动连接升降机构,旋转器用于驱动转轴旋转,以带动所述升降...该专利属于深圳市裕展精密科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市裕展精密科技有限公司授权不得商用。
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一种清洗装置,包括罐体、置物架、底座、转轴、升降机构及旋转器,罐体用于收容清洗液,置物架置于罐体内用于放置工件,底座用于固定置物架,升降机构连接转轴位于罐体内的一端,并随转轴旋转,底座滑动连接升降机构,旋转器用于驱动转轴旋转,以带动所述升降...