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一种组合磁场与内衬阶梯管和多孔挡板复合的镀膜装置，属于真空镀膜技术领域，本发明为解决电弧离子镀中大颗粒对薄膜的污染和靶材使用限制、磁过滤电弧等离子体的损失及高功率脉冲磁控溅射放电不稳定等问题。本发明的装置包括：偏压电源、电弧离子镀靶源及电源...
该专利属于魏永强所有，仅供学习研究参考，未经过魏永强授权不得商用。

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