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本发明属于光刻技术领域,具体公开了一种晶圆调平方法、芯片键合方法、芯片键合设备及光刻系统。其中晶圆调平方法包括:在调平区域中选择调平检测点;对每一调平检测点,获取调平检测点的X和Y坐标,键合头沿Z坐标方向靠近调平检测点的过程中,实时检测键合...该专利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海微电子装备(集团)股份有限公司授权不得商用。
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本发明属于光刻技术领域,具体公开了一种晶圆调平方法、芯片键合方法、芯片键合设备及光刻系统。其中晶圆调平方法包括:在调平区域中选择调平检测点;对每一调平检测点,获取调平检测点的X和Y坐标,键合头沿Z坐标方向靠近调平检测点的过程中,实时检测键合...