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本发明涉及一种水系剥离液组合物，包括去离子水、有机季胺化合物、有机醇胺、有机剥离溶剂、缓蚀剂、螯合助剂，并同时提供了所述一种水系剥离液组合物的使用方法，本发明主要用于去除微电子制造过程中光刻胶残留物，操作温度较低，能耗较少，在对晶圆清洗后无...
该专利属于昆山欣谷微电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山欣谷微电子材料有限公司授权不得商用。

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