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本发明公开一种石墨炔润滑薄膜的制备方法及其应用，所述方法包括：（1）以单晶硅为基底，使用物理气相沉积法在其表面沉积铜纳米膜，且沉积温度不低于110℃，沉积完成后立即对铜纳米膜进行快速冷却，即得沉积有铜纳米膜的基底，备用；（2）将六炔基苯在溶...
该专利属于曲阜师范大学所有，仅供学习研究参考，未经过曲阜师范大学授权不得商用。

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