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本发明公开了一种用于基轴式SLM设备的粉末腔流化结构，包括粉末腔和固定在所述粉末腔上方的气体室；所述气体室和粉末腔之间设有通道；所述通道的下方在所述粉末腔内设有基轴；所述气体室的上方设有激光头，且在所述气体室的顶部设有激光保护镜；所述粉末腔...
该专利属于浙江意动科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江意动科技股份有限公司授权不得商用。

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