温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请披露了一种用于制备式(XI)的化合物的方法和化合物。进而，本申请披露了一种包含少量杂质的式(XI)的化合物。含少量杂质的式(XI)的化合物。含少量杂质的式(XI)的化合物。
...
该专利属于卫材R&D管理有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过卫材R&D管理有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。