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形成NiP非磁性膜的方法和使用该膜制造磁头的方法技术
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文档序号:3107973
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本发明的方法可以容易而安全地形成NiP非磁性膜。在通过电解电镀形成NiP非磁性膜的方法中,电解电镀在由以下组分构成的NiP电镀溶液中进行:提供镍离子的试剂;提供磷离子的试剂;和包含羧基的试剂。例如,镍的硫酸盐和氯盐等可以用作提供镍离子的试剂...
该专利属于富士通株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士通株式会社授权不得商用。
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