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本申请涉及放射性药物合成的领域，尤其是涉及一种易清洁型合成热室，其包括箱体，箱体内设有热室，箱体上设有屏蔽门，所述热室内设有清洗机构，所述清洗机构包括清洗组件和排水组件，所述清洗组件包括清洗管和喷头，所述喷头与清洗管连通，所述喷头位于热室内...
该专利属于上海安迪科正电子技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海安迪科正电子技术有限公司授权不得商用。

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