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本实用新型属于绝缘膜领域，尤其为一种用于屏蔽罩的绝缘膜结构，包括由上至下依次分布的缓冲层、绝缘层、屏蔽层、隔膜层和粘接层，所述绝缘层的顶面设有缓冲层，所述缓冲层与所述绝缘层固定连接，所述绝缘层的底面设有屏蔽层，所述屏蔽层与所述绝缘层固定连接...
该专利属于苏州东达电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州东达电子材料有限公司授权不得商用。

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