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本实用新型公开了一种硅片的刻蚀装置，包括：片架、驱动组件、容器、加热件，驱动组件与片架连接并用于驱动片架沿竖向往复运动，容器开设有腐蚀槽，腐蚀槽位于片架的正下方，加热件位于容器的一侧或设置于容器中，加热件用于对加入腐蚀槽中的腐蚀液进行加热。...
该专利属于扬州晶新微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过扬州晶新微电子有限公司授权不得商用。

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