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本实用新型涉及薄片类介质处理领域，公开一种薄片类介质输送机构及薄片类介质处理装置。薄片类介质输送机构包括机架及设置于机架的至少一个输送组件，机架设有输送通道，输送通道具有通道面，通道面设有第一槽和第二槽；输送组件包括第一带轮、第二带轮及输送...
该专利属于山东新北洋信息技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过山东新北洋信息技术股份有限公司授权不得商用。

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