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一种选择蚀刻钨及氮化钛的蚀刻液制造技术
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文档序号:30684173
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本发明涉及一种选择蚀刻钨及氮化钛的蚀刻液。在本发明中,双氧水,双氧水稳定剂,硝酸,有机酸,蚀刻抑制剂,表面活性剂和去离子水构成钨、氮化钛蚀刻液。在蚀刻液对钨及氮化钛蚀刻的过程中,能够保持稳定的蚀刻速率和较大的选择比。带有氨基基团的联吡啶可以...
该专利属于湖北兴福电子材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过湖北兴福电子材料有限公司授权不得商用。
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