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提供一种新颖的V合金靶，其在靶的机械加工中，可抑制靶表面中的凹凸的产生，可抑制成膜时的异常放电的产生，同时也可达成抑制液滴向被处理材的附着。一种V合金靶，包含V及W，且侵蚀面中的维氏硬度的平均值为340HV～750HV的范围，在5点测定点进...
该专利属于日立金属株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日立金属株式会社授权不得商用。

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