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光信息记录介质及其制造方法技术
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文档序号:3065593
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一种光信息记录介质,在形成磁道间距为200~400nm、深度为10~150nm的槽的衬底上依次设置光反射层、记录层和保护层,并且从所述保护层侧照射波长小于500nm的激光而进行记录和再生,其特征在于,所述光反射层是由铝或铝合金构成。所述光信...
该专利属于富士胶片株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士胶片株式会社授权不得商用。
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