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全息记录和再现装置以及其中所使用的掩模制造方法及图纸
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下载全息记录和再现装置以及其中所使用的掩模的技术资料
文档序号:3061229
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在一种具有全息介质的全息记录装置中,该全息介质用于存储参考光束与调制信号光束之间的干涉图案,使用数据调制信号光束以产生调制信号光束的双层掩模,具有第一和第二不透明膜以及一插入其间的透明板。第一和第二不透明膜彼此相对,并且分别具有多个第一和第...
该专利属于株式会社大宇电子所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社大宇电子授权不得商用。
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