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本实用新型公开了一种超构表面元件以及图像处理装置，其中，所述超构表面元件包括基底、第一微结构阵列和第二微结构阵列，所述第一微结构阵列设置于所述基底上，用于三维成像；所述第二微结构阵列设置于所述基底上背离所述第一微结构阵列的一侧，用于加强图像...
该专利属于香港理工大学深圳研究院所有，仅供学习研究参考，未经过香港理工大学深圳研究院授权不得商用。

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