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本发明涉及均匀的光活性膜，所述光活性膜由具有可以经历光反应的残基的聚电解质组成或者包含所述聚电解质，所述聚电解质主要包含根据通式（Ⅰ）至（Ⅳ）中任一个的至少一种结构，即［Ｐｏｌ（Ｒ↑［＊］－Ｐ－Ｒ’）］↓［ｏ］↑［ｏｎ＋］ｎ／ｘＡ↑［ｘ－］...
该专利属于弗劳恩霍弗应用技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过弗劳恩霍弗应用技术研究院授权不得商用。

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