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一种半导体结构的形成方法，包括：提供衬底；在衬底上形成若干鳍部结构，相邻的鳍部结构之间具有隔离沟槽；在隔离沟槽内形成第一隔离层；在第一隔离层表面形成填充满隔离沟槽的第二隔离层；去除第一隔离层。本发明的技术方案中，通过去除第一隔离层，使得第二...
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