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本发明公开了一种大面积光栅的制备方法，包括：S1：搭建干涉曝光光路；S2：选定制备大面积光栅所需的光刻胶和基底材料，再依次进行匀胶和前烘步骤；S3：预设曝光时间并曝光；S4：预设显影时间并显影；S5：观察基底中心的光刻胶是否已经溶解完，如果...
该专利属于清华大学深圳国际研究生院所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学深圳国际研究生院授权不得商用。

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