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一种用于涂覆容器的设备，具有入口和出口，在入口处容器被移交至设备，在出口处容器离开设备，设备具有用于产生真空的至少一个真空装置，并且具有利用等离子体涂覆容器的至少一个处理站，其中处理站与真空装置流体连接，并且其中处理站具有至少一个处理装置，...
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