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本申请实施例提供一种基站及清洁系统，包括：壳体、清洁部和通风流道；壳体包括清洁槽和容纳空间，容纳空间设置在壳体的下部，清洁槽设置在容纳空间的下方且与容纳空间连通；清洁部设置在清洁槽中，用于对位于容纳空间内的待清洁设备的清洁件进行清洁；通风流...
该专利属于美智纵横科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过美智纵横科技有限责任公司授权不得商用。

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