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本公开涉及一种基于CMOS工艺的多层结构的红外探测器，红外探测器中的CMOS测量电路系统和CMOS红外传感结构均使用CMOS工艺制备，CMOS制作工艺包括金属互连工艺、通孔工艺、IMD工艺以及RDL工艺，多层结构的红外探测器中，第一柱状结构...
该专利属于北京北方高业科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方高业科技有限公司授权不得商用。

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