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本发明公开了一种基于菲林光刻工艺的透明天线制备方法及透明天线，该方法包括S1.低可视透明天线结构的设计；S2.将低可视透明天线结构图形出到菲林片上制作菲林掩膜版；S3.对透明导电膜和感光干膜进行预定尺寸的裁切以及前处理；S4.透明导电膜表面...
该专利属于中国科学院重庆绿色智能技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院重庆绿色智能技术研究院授权不得商用。

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