温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种垂向测量系统及曝光装置，所述垂向测量系统用于测量曝光装置之待测量面的垂向位移，其沿光路依次包括：光源入射装置、信号调制单元、投影支路、探测支路及探测装置；其中，信号调制单元包括依次排布的第一透镜、扫描反射镜及第二透镜，扫描反射...
该专利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备（集团）股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。