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本实用新型公开了新型高溅射率磁控旋转圆柱靶，涉及磁控旋转圆柱靶技术领域，为解决现有的磁控旋转圆柱靶的溅射性能还不够稳定，溅射效率不够高的问题。所述旋转圆柱靶的一端安装有侧边固定块，所述旋转圆柱靶的另一侧安装有连接传动套，所述连接传动套的另一...
该专利属于莱糸真空科技（常州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过莱糸真空科技（常州）有限公司授权不得商用。

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