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本实用新型提供一种非均相催化氧化处理的装置，所述装置包括反应器，所述反应器内设置有氧化剂分布区和催化氧化区，所述氧化剂分布区内设置有氧化剂分布件，所述氧化剂分布区的高度与所述催化氧化区的高度比为0.2～3:1，所述装置避免了催化氧化区中催化...
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