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电磁处理单元(8)，其具有：主体(9)，其具有正面(10)；光发射装置(21)，其具有多个发光源，光发射装置(21)在主体(9)上安装成向前辐射；流体回路，其配置在主体(9)内，用于光发射装置(21)的热调节；至少一个限制件(44，60，7...
该专利属于西德尔合作公司所有，仅供学习研究参考，未经过西德尔合作公司授权不得商用。

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