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本发明提供一种等离子体处理装置用构件和具备它的等离子体处理装置，其耐等离子体性优异，膜对于基材的密接强度得到提高。等离子体处理装置用构件(1)具备如下而成：含有作为金属元素或半金属元素的第一元素的基材(2)；位于基材(2)之上的以稀土元素的...
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