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本申请案涉及用于在导电材料沉积期间抑制线路弯曲的方法及有关设备。形成结构的方法包括形成从基础结构垂直地延伸的细长特征的图案。在所述细长特征上形成导电材料。在完成形成细长特征的所述图案之后，使所述细长特征、所述导电材料或两者暴露于至少一种表面...
该专利属于美光科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过美光科技公司授权不得商用。

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