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本发明公开一种单原子内嵌富勒烯及其原位合成方法，该内嵌富勒烯的内嵌原子为氮、氦、氩和氙等之中的至少一种；该制备方法首先将富勒烯原料升华为气态并沉积在铜箔上形成富勒烯薄膜，接着通过考夫曼离子源将反应室内的非金属气体或惰性气体电离，含正离子气氛...
该专利属于中国人民解放军国防科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国人民解放军国防科技大学授权不得商用。

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