专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
联华电子股份有限公司
>
高电子迁移率晶体管及其制作方法技术
>技术资料下载
下载高电子迁移率晶体管及其制作方法的技术资料
文档序号:29591727
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开一种高电子迁移率晶体管,包括基底、P型III‑V族化合物层、栅极电极以及含碳层。该P型III‑V族化合物层设置于该基底上,且该栅极电极设置于该P型III‑V族化合物层上。该含碳层设置于该P型III‑V族化合物层下方,作为一扩散阻挡...
该专利属于联华电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过联华电子股份有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。