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本实用新型公开一种用于镀铝层高附着力薄膜的设备，具有真空室，真空室中包括有膜导向机构，蒸发器及挡板驱动机构，于蒸发器上方为左右对向设置的旋转挡板，挡板驱动机构通过转轴驱动旋转挡板旋转，所述膜导向机构引导基材依次经过等离子发射器、蒸发器，旋转...
该专利属于广东雄华新材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广东雄华新材料科技有限公司授权不得商用。

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