温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种多元合金膜层的沉积装置及运用该装置的沉积工艺，涉及等离子镀膜领域。该沉积装置包括等离子发生器以及真空腔室，其中，等离子体发生器包括一主管道和多个分支管道，通过该沉积装置能实现采用单元或二元合金作为靶材进行高熵合金膜层的制备，...
该专利属于廖斌;广东省广新离子束科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过廖斌;广东省广新离子束科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。