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本申请涉及镀膜玻璃领域，具体公开了一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法。低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板和依次溅射设于玻璃基板上的ZnOx膜、Ag膜、NiCr薄膜和SiNx膜；其制备方法为：清洗玻璃基板，干燥；将镀膜室抽真空，使镀膜室真空度为2*10...
该专利属于苏州晶博特镀膜玻璃有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州晶博特镀膜玻璃有限公司授权不得商用。

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