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本发明提供曝光方法和离焦量测量方法，其中，所述曝光方法包括：对掩模板进行分区，分为图形区和离焦标记区，所述离焦标记区位于所述图形区的边缘；在所述掩模板上方设置光阑，通过所述光阑使透过所述离焦标记区的光对光刻胶层的侧壁实现非对称照明，以及使透...
该专利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备(集团)股份有限公司授权不得商用。

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