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本发明涉及光刻设备及工艺技术领域，尤其涉及一种掩模对准系统、掩模对准方法和光刻设备。该掩模对准系统包括数据处理装置、图像采集装置、工作台、掩模台、成像装置和投影物镜。工作台和掩模台分别设置于投影物镜的两侧，基准版的基准标记通过投影物镜呈倒立...该专利属于北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）所有，仅供学习研究参考，未经过北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）授权不得商用。