温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种把光罩偏差放大系数引入光学邻近效应建模的方法，在光学邻近效应建立工艺模型的基本工艺线宽数据的收集过程中，把工艺模型所需的经验线宽数据的权重值与图形的光罩偏差放大系数相关，可以过滤一些工艺和量测上的不稳定因素，大大加快工艺模型...
该专利属于上海华虹ＮＥＣ电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹ＮＥＣ电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。