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一种MEMS硅压阻式压力传感器及其制备方法技术
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文档序号:29130160
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本发明提出了一种MEMS硅压阻式压力传感器及其制备方法,通过设置硅衬底层、发热Pt电阻层、金属Al热沉结构层和压阻器件层,为MEMS硅压阻芯片提供一个稳定的温度场,利用恒温温度场系统将MEMS敏感元件与外界温度场相隔离,从而在本质上达到解决...
该专利属于成都凯天电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过成都凯天电子股份有限公司授权不得商用。
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