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本发明公开了一种镀膜治具、镀膜设备及镀膜方法，涉及玻璃镀膜技术领域。所述镀膜设备包括真空室、偏压电源及镀膜治具，所述镀膜治具包括金属本体，所述金属本体上设有仿形凹坑，所述仿形凹坑的内壁与镀膜工件的镀膜面相契合；真空室内设有工件架及靶源，所述...
该专利属于深圳市万普拉斯科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市万普拉斯科技有限公司授权不得商用。

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