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本发明涉及一种超黑高性能Ti‑DLC涂层的制备工艺，包括将工件置于真空腔室内，对真空腔室进行抽气处理，抽气处理后对真空腔室和/或工件进行除杂处理，除杂处理后向真空腔室内充入Ar，采用中频电源孪生Ti靶在工件的表面制备打底层，打底层制备好后，...
该专利属于安徽纯源镀膜科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽纯源镀膜科技有限公司授权不得商用。

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